吸除

基本属性

  • 拼音字母xi chu
  • 拼音首字母xc
  • 注音符号ㄒㄧ ㄔㄨ

扩展释义

定 义 使晶片中有害杂质固定在远离器件有源区,以获得表面洁净区的工艺。

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